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半導体およびLCD/FPD（Flat Panel Display）業界は、装置の稼働率改善−最終的にはFAB全体での生産性向上−を目指し熾烈な競争とチャレンジを続けています。
HPは、各種EESアプリケーションを統合的に構築し、装置データを効率的に活用することで、装置稼動率向上、FAB生産性向上を実現する統合フレームワークとソリューションをご提供します。 |
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- 半導体/液晶/FPD業界に特化したEESフレームワーク
- 信頼性、可用性、スケーラビリティに富んだソリューション
- 装置/人/プロセスの連携を統合的に改善する、”EES Suite”
- 生産能力向上
- 装置の信頼性/可用性向上
- MTTR短縮、MTBF最大化
- 再生/廃棄ウェーハ（パネル）削減
- NPW（Non-Production Wafer）削減
- メンテナンスコスト削減
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- BISTel PeakPerformance™ Framework
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装置から取得した情報を、複数のEESアプリケーションで効率的に活用する為のフレームワーク |
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装置からの情報を、関連するアプリケーションにディスパッチ |
- Global Modeling - モデリングの統合 -
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各アプリケーション用の装置データモデリング（装置モデル、イベント、アラーム、トレースデータ等)
を一元化 |
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- eExecuter - 装置インタフェースツール -
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装置と通信し、装置エンジニアリングに必要なデータの収集、制御を行う |
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各種スタンダードに準拠（SECS-II、GEM、SEMATECH VFEI、Interface
A、TDI） |
- Global EE Database - DBの統合 -
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装置エンジニアリングデータをまとめて管理し、データの利用効率を高める |
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マスタデータの多重化を回避し、管理コストを低減 |
- eRMS - レシピ管理 -
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FAB-wideでレシピ情報管理を一元化 |
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レシピボディの参照/編集機能 |
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レシピ確認による誤作業防止 |
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豊富なレシピデータライブラリ（RDL）でフォーマット付/フォーマット無レシピにも容易かつ柔軟に対応 |
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リビジョン管理、レシピ比較機能 |
- eMPA - 装置監視＆パフォーマンス解析 -
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装置を監視し、OEE（Overall Equipment Efficiency：統合装置効率）の低下を回避 |
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損失の原因解析に有用な装置からの情報を管理 |
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装置レベル／チャンバレベル/ポートレベルでの細かな抑止機能 |
- ePMM - 予防保全管理 -
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予防保全スケジューリングを管理 |
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タスク/ジョブプラン/ワークオーダー管理 |
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メンテナンスコスト/予防保全の履歴をトラッキング |
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- eAPC - APCインフラ -
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FAB-wideのAPCインフラ |
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eAPCシミュレータ |
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SEMI E133 準拠 |
- EES Portal - UIの統合 -
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各アプリケーションの利用を簡便化する強力なポータル |
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印刷用画面へ
